PROPERTIES OF MICROCRYSTALLINE SILICON THIN FILMS DEPOSITED AT HIGH RATE BY PECVD / P., Rava; G., Ambrosone; U., Coscia; M., Ambrico; D. K., Basa; Scaltrito, Luciano; Tresso, Elena Maria. - (2007), pp. 2141-2144.

PROPERTIES OF MICROCRYSTALLINE SILICON THIN FILMS DEPOSITED AT HIGH RATE BY PECVD

SCALTRITO, LUCIANO;TRESSO, Elena Maria
2007

2007
9783936338225
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