PROPERTIES OF MICROCRYSTALLINE SILICON THIN FILMS DEPOSITED AT HIGH RATE BY PECVD / P., Rava; G., Ambrosone; U., Coscia; M., Ambrico; D. K., Basa; Scaltrito, Luciano; Tresso, Elena Maria. - (2007), pp. 2141-2144.
PROPERTIES OF MICROCRYSTALLINE SILICON THIN FILMS DEPOSITED AT HIGH RATE BY PECVD
SCALTRITO, LUCIANO;TRESSO, Elena Maria
2007
File in questo prodotto:
Non ci sono file associati a questo prodotto.
Pubblicazioni consigliate
I documenti in IRIS sono protetti da copyright e tutti i diritti sono riservati, salvo diversa indicazione.
Utilizza questo identificativo per citare o creare un link a questo documento:
https://hdl.handle.net/11583/1666159
Attenzione
Attenzione! I dati visualizzati non sono stati sottoposti a validazione da parte dell'ateneo