Archivio Istituzionale della RicercaBoron and phosphorus doping of a-SiC:H thin films by means of ion implantation / F., D., G., C., Pirri, C., Tresso, E.M., R., G., C., S., R., R., F., Z., P., R.. - In: THIN SOLID FILMS. - ISSN 0040-6090. - 265:(1995), pp. 113-118.
Boron and phosphorus doping of a-SiC:H thin films by means of ion implantation
PIRRI, Candido;TRESSO, Elena Maria;
1995
File in questo prodotto:
Non ci sono file associati a questo prodotto.
Pubblicazioni consigliate
I documenti in IRIS sono protetti da copyright e tutti i diritti sono riservati, salvo diversa indicazione.
Utilizza questo identificativo per citare o creare un link a questo documento:
https://hdl.handle.net/11583/1661223
Attenzione
Attenzione! I dati visualizzati non sono stati sottoposti a validazione da parte dell'ateneo