Boron and phosphorus doping of a-SiC:H thin films by means of ion implantation / F., Demichelis; G., Crovini; Pirri, Candido; Tresso, Elena Maria; R., Galloni; C., Summonte; R., Rizzoli; F., Zignani; P., Rava. - In: THIN SOLID FILMS. - ISSN 0040-6090. - 265:(1995), pp. 113-118.
Boron and phosphorus doping of a-SiC:H thin films by means of ion implantation
PIRRI, Candido;TRESSO, Elena Maria;
1995
File in questo prodotto:
Non ci sono file associati a questo prodotto.
Pubblicazioni consigliate
I documenti in IRIS sono protetti da copyright e tutti i diritti sono riservati, salvo diversa indicazione.
Utilizza questo identificativo per citare o creare un link a questo documento:
https://hdl.handle.net/11583/1661223
Attenzione
Attenzione! I dati visualizzati non sono stati sottoposti a validazione da parte dell'ateneo