a-SiC:H doped with reactive gases and ion implantation / F., Demichelis; Pirri, Candido; E., Tresso; G., Dellamea; V., Rigato; G. AMATO AND P., Rava. - 219:(1991), pp. 793-795. (Intervento presentato al convegno MATERIALS RESEARCH SOCIETY SYMPOSIA PROCEEDINGS).
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https://hdl.handle.net/11583/1661073
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