Hot-wire CVD: a one-step process to obtain thin film polycrystalline silicon at a low temperature on cheap substrates / Rath, J.K., Galetto, M., VAN DER WERF, C.H.M., Feenstra, K.F., Meiling, H., VAN CLEEF, M.W.M., Schropp, R.E.I.. - (1996), pp. 227-227. (Int. PVSEC-9 November 11-15).

Hot-wire CVD: a one-step process to obtain thin film polycrystalline silicon at a low temperature on cheap substrates

GALETTO, Maurizio;
1996

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