Hot-wire CVD: a one-step process to obtain thin film polycrystalline silicon at a low temperature on cheap substrates / Rath, J.K., Galetto, M., VAN DER WERF, C.H.M., Feenstra, K.F., Meiling, H., VAN CLEEF, M.W.M., Schropp, R.E.I.. - (1996), pp. 227-227. (Int. PVSEC-9 November 11-15).
Hot-wire CVD: a one-step process to obtain thin film polycrystalline silicon at a low temperature on cheap substrates
GALETTO, Maurizio;
1996
File in questo prodotto:
Non ci sono file associati a questo prodotto.
Pubblicazioni consigliate
I documenti in IRIS sono protetti da copyright e tutti i diritti sono riservati, salvo diversa indicazione.
Utilizza questo identificativo per citare o creare un link a questo documento:
https://hdl.handle.net/11583/1412465
Attenzione
Attenzione! I dati visualizzati non sono stati sottoposti a validazione da parte dell'ateneo
