Hot-wire CVD: a one-step process to obtain thin film polycrystalline silicon at a low temperature on cheap substrates / Rath, J. K.; Galetto, Maurizio; VAN DER WERF, C. H. M.; Feenstra, K. F.; Meiling, H; VAN CLEEF, M. W. M.; Schropp, R. E. I.. - (1996), pp. 227-227. (Intervento presentato al convegno Int. PVSEC-9 nel November 11-15).

Hot-wire CVD: a one-step process to obtain thin film polycrystalline silicon at a low temperature on cheap substrates

GALETTO, Maurizio;
1996

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Utilizza questo identificativo per citare o creare un link a questo documento: https://hdl.handle.net/11583/1412465
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