Applications des plasmas produits par le laser à excimères HERCULES-L : Du recuit du silicium à la lithographie par rayons X

Bollanti, S.; Bonfigli, F.; Di Lazzaro, P.; Faenov, A.; Flora, F.; Giordano, G.; Letardi, T.; Limongi, T.; Mezi, L.; Murra, D.; Pikuz, T.; Palladino, L.; Reale, A.; Reale, L.; Ritucci, A.; Scafati, A.; Tomassetti, G.; Vitali, A.; Zheng, C. E.

Applications des plasmas produits par le laser à excimères HERCULES-L : Du recuit du silicium à la lithographie par rayons X / Bollanti, S.; Bonfigli, F.; Di Lazzaro, P.; Faenov, A.; Flora, F.; Giordano, G.; Letardi, T.; Limongi, T.; Mezi, L.; Murra, D.; Pikuz, T.; Palladino, L.; Reale, A.; Reale, L.; Ritucci, A.; Scafati, A.; Tomassetti, G.; Vitali, A.; Zheng, C. E.. - In: JOURNAL DE PHYSIQUE IV. - ISSN 1155-4339. - 11:7(2001), pp. 133-134.

Titolo:	Applications des plasmas produits par le laser à excimères HERCULES-L : Du recuit du silicium à la lithographie par rayons X
Autori:	Bollanti S. Bonfigli F. Di Lazzaro P. Faenov A. Flora F. Giordano G. Letardi T. LIMONGI, TANIA Mezi L. Murra D. Pikuz T. Palladino L. Reale A. Reale L. Ritucci A. Scafati A. Tomassetti G. Vitali A. Zheng C. E. mostra contributor esterni nascondi contributor esterni
Data di pubblicazione:	2001
Rivista:	JOURNAL DE PHYSIQUE IV
Appare nelle tipologie:	1.1 Articolo in rivista

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Bollanti_JdPIV_2001.pdf	Articolo principale	2a Post-print versione editoriale / Version of Record	Non Pubblico - Accesso privato/ristretto	Administrator Richiedi una copia

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http://hdl.handle.net/11583/2852582

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