PORTO @ Archivio Istituzionale della Ricerca

Applications des plasmas produits par le laser à excimères HERCULES-L : Du recuit du silicium à la lithographie par rayons X / Bollanti, S.; Bonfigli, F.; Di Lazzaro, P.; Faenov, A.; Flora, F.; Giordano, G.; Letardi, T.; Limongi, T.; Mezi, L.; Murra, D.; Pikuz, T.; Palladino, L.; Reale, A.; Reale, L.; Ritucci, A.; Scafati, A.; Tomassetti, G.; Vitali, A.; Zheng, C. E.. - In: JOURNAL DE PHYSIQUE IV. - ISSN 1155-4339. - 11:7(2001), pp. 133-134.

Applications des plasmas produits par le laser à excimères HERCULES-L : Du recuit du silicium à la lithographie par rayons X

Limongi T.;
2001
1.1 Articolo in rivista
File in questo prodotto:
File Dimensione Formato  
Bollanti_JdPIV_2001.pdf

non disponibili

Descrizione: Articolo principale
Tipologia: 2a Post-print versione editoriale / Version of Record
Licenza: Non Pubblico - Accesso privato/ristretto
Dimensione 303.44 kB
Formato Adobe PDF
  Visualizza/Apri   Richiedi una copia
303.44 kB Adobe PDF   Visualizza/Apri   Richiedi una copia
Pubblicazioni consigliate

Caricamento pubblicazioni consigliate

I documenti in IRIS sono protetti da copyright e tutti i diritti sono riservati, salvo diversa indicazione.

Utilizza questo identificativo per citare o creare un link a questo documento: https://hdl.handle.net/11583/2852582