Influence of block copolymer feature size on reactive ion etching pattern transfer into silicon / Dialameh, Masoud; Lupi, F. Ferrarese; Imbraguglio, Dario; Zanenga, F.; Lamperti, A.; Martella, D.; Seguini, G.; Perego, M.; Rossi, Andrea Mario; De Leo, N.; Boarino, L.. - In: NANOTECHNOLOGY. - ISSN 0957-4484. - 28:40(2017), p. 404001. [10.1088/1361-6528/aa8144]

Influence of block copolymer feature size on reactive ion etching pattern transfer into silicon

DIALAMEH, MASOUD;IMBRAGUGLIO, DARIO;ROSSI, Andrea Mario;
2017

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