Influence of block copolymer feature size on reactive ion etching pattern transfer into silicon / Dialameh, M.; Lupi, F Ferrarese; Imbraguglio, D.; Zanenga, F.; Lamperti, A.; Martella, D.; Seguini, G.; Perego, M.; Rossi, A.M.; De Leo, N.; Boarino, L.. - In: NANOTECHNOLOGY. - ISSN 0957-4484. - 28:40(2017), p. 404001. [10.1088/1361-6528/aa8144]
Titolo: | Influence of block copolymer feature size on reactive ion etching pattern transfer into silicon | |
Autori: | ||
Data di pubblicazione: | 2017 | |
Rivista: | ||
Digital Object Identifier (DOI): | http://dx.doi.org/10.1088/1361-6528/aa8144 | |
Appare nelle tipologie: | 1.1 Articolo in rivista |
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Dialameh_2017_Nanotechnology_28_404001.pdf | 2. Post-print / Author's Accepted Manuscript | Non Pubblico - Accesso privato/ristretto | Administrator Richiedi una copia |
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http://hdl.handle.net/11583/2684399
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