Archivio Istituzionale della RicercaInfluence of block copolymer feature size on reactive ion etching pattern transfer into silicon / Dialameh, M., Lupi, F.F., Imbraguglio, D., Zanenga, F., Lamperti, A., Martella, D., Seguini, G., Perego, M., Rossi, A.M., De Leo, N., Boarino, L.. - In: NANOTECHNOLOGY. - ISSN 0957-4484. - 28:40(2017), p. 404001. [10.1088/1361-6528/aa8144]
Influence of block copolymer feature size on reactive ion etching pattern transfer into silicon
DIALAMEH, MASOUD;IMBRAGUGLIO, DARIO;ROSSI, Andrea Mario;
2017
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https://hdl.handle.net/11583/2684399
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