Archivio Istituzionale della RicercaSilicon nanocrystals by thermal annealing of Si-rich silicon oxide prepared by the LPCVD method / M., Ivanda; Gebavi, Hrvoje; D., Risti; K., Furi; S., Musi; M., Risti; S., Zonja; P., Biljanovi; O., Gamulin; M., Balarin; M., Montagna; M., Ferarri; G. C., Righini. - In: JOURNAL OF MOLECULAR STRUCTURE. - ISSN 0022-2860. - 834-836:(2007).
Silicon nanocrystals by thermal annealing of Si-rich silicon oxide prepared by the LPCVD method
GEBAVI, HRVOJE;
2007
File in questo prodotto:
Non ci sono file associati a questo prodotto.
Pubblicazioni consigliate
I documenti in IRIS sono protetti da copyright e tutti i diritti sono riservati, salvo diversa indicazione.
Utilizza questo identificativo per citare o creare un link a questo documento:
https://hdl.handle.net/11583/1848054
Attenzione
Attenzione! I dati visualizzati non sono stati sottoposti a validazione da parte dell'ateneo