Thermal stability of a-Si1-xCx:H films grown by PECVD with different gas sources / F., Demichelis; Giorgis, Fabrizio; Pirri, Candido; Tresso, Elena Maria. - In: PHYSICA. B, CONDENSED MATTER. - ISSN 0921-4526. - 225:(1996), pp. 103-198.

Thermal stability of a-Si1-xCx:H films grown by PECVD with different gas sources

GIORGIS, FABRIZIO;PIRRI, Candido;TRESSO, Elena Maria
1996

1996
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