Archivio Istituzionale della RicercaOptoelectronic and structural properties of amorphous silicon-carbon alloys deposited by low-power electron-cyclotron resonance plasma-enhanced chemical-vapor deposition / J. P., Conde; V., Chu; M. F., DA SILVA; A., Kling; Z., Dai; J. C., Soares; S., Arekat; A., Fedorov; M. N., BERBERAN SANTOS; Giorgis, Fabrizio; Pirri, Candido. - In: JOURNAL OF APPLIED PHYSICS. - ISSN 0021-8979. - 85:(1999), p. 3327.
Optoelectronic and structural properties of amorphous silicon-carbon alloys deposited by low-power electron-cyclotron resonance plasma-enhanced chemical-vapor deposition
GIORGIS, FABRIZIO;PIRRI, Candido
1999
File in questo prodotto:
Non ci sono file associati a questo prodotto.
Pubblicazioni consigliate
I documenti in IRIS sono protetti da copyright e tutti i diritti sono riservati, salvo diversa indicazione.
Utilizza questo identificativo per citare o creare un link a questo documento:
https://hdl.handle.net/11583/1661133
Attenzione
Attenzione! I dati visualizzati non sono stati sottoposti a validazione da parte dell'ateneo