Archivio Istituzionale della RicercaBoron passivation and its reactivation in mesoporous silicon: a "chemical" model / Garrone, E., Geobaldo, F., Rivolo, P., Salvador, G.p., Pallavidino, L., Boarino, L., Amato, G., Giamello, E., Chiesa, M., Gobetto, R., Ugliengo, P.. - In: PHYSICA STATUS SOLIDI. A, APPLICATIONS AND MATERIALS SCIENCE. - ISSN 1862-6300. - 202:(2005), pp. 1567-1570.
Boron passivation and its reactivation in mesoporous silicon: a "chemical" model
GARRONE, EDOARDO;GEOBALDO, FRANCESCO;RIVOLO, PAOLA;
2005
File in questo prodotto:
Non ci sono file associati a questo prodotto.
Pubblicazioni consigliate
I documenti in IRIS sono protetti da copyright e tutti i diritti sono riservati, salvo diversa indicazione.
Utilizza questo identificativo per citare o creare un link a questo documento:
https://hdl.handle.net/11583/1539280
Attenzione
Attenzione! I dati visualizzati non sono stati sottoposti a validazione da parte dell'ateneo