Archivio Istituzionale della RicercaA single quality factor for the deposition process of reactively-sputtered thin a-C:H:N films / G., Messina; S., Santangelo; Tagliaferro, Alberto; A., Tucciarone. - In: JOURNAL OF NON-CRYSTALLINE SOLIDS. - ISSN 0022-3093. - 318:(2003), pp. 322-330.
A single quality factor for the deposition process of reactively-sputtered thin a-C:H:N films
TAGLIAFERRO, Alberto;
2003
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https://hdl.handle.net/11583/1406425
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