Characteristics of a-C:H:Si films deposited in various deposition conditions / DE MARTINO, C.; Demichelis, F.; Tagliaferro, Alberto. - In: DIAMOND AND RELATED MATERIALS. - ISSN 0925-9635. - 3:(1994), pp. 547-547.
Characteristics of a-C:H:Si films deposited in various deposition conditions
TAGLIAFERRO, Alberto
1994
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https://hdl.handle.net/11583/1406414
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