Chemisorption of NO2 at Boron sites at the surface of nanostructured mesoporous silicon / Geobaldo, F., Rivolo, P., S., B., L., B., G., A., Garrone, E.. - In: JOURNAL OF PHYSICAL CHEMISTRY. B, CONDENSED MATTER, MATERIALS, SURFACES, INTERFACES & BIOPHYSICAL. - ISSN 1520-6106. - 108:(2004), pp. 18306-18310.

Chemisorption of NO2 at Boron sites at the surface of nanostructured mesoporous silicon

GEOBALDO, FRANCESCO;RIVOLO, PAOLA;GARRONE, EDOARDO
2004

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Utilizza questo identificativo per citare o creare un link a questo documento: https://hdl.handle.net/11583/1401263
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