Chemisorption of NO2 at Boron sites at the surface of nanostructured mesoporous silicon / Geobaldo, Francesco; Rivolo, Paola; S., Borini; L., Boarino; G., Amato; Garrone, Edoardo. - In: JOURNAL OF PHYSICAL CHEMISTRY. B, CONDENSED MATTER, MATERIALS, SURFACES, INTERFACES & BIOPHYSICAL. - ISSN 1520-6106. - 108:(2004), pp. 18306-18310.
Chemisorption of NO2 at Boron sites at the surface of nanostructured mesoporous silicon
GEOBALDO, FRANCESCO;RIVOLO, PAOLA;GARRONE, EDOARDO
2004
File in questo prodotto:
Non ci sono file associati a questo prodotto.
Pubblicazioni consigliate
I documenti in IRIS sono protetti da copyright e tutti i diritti sono riservati, salvo diversa indicazione.
Utilizza questo identificativo per citare o creare un link a questo documento:
https://hdl.handle.net/11583/1401263
Attenzione
Attenzione! I dati visualizzati non sono stati sottoposti a validazione da parte dell'ateneo