Wide band-gap silicon-carbon alloys deposited by very high frequency plasma enhanced chemical vapor deposition / C., S., R., R., M., B., A., D., D., I., Giorgis, F.. - In: JOURNAL OF APPLIED PHYSICS. - ISSN 0021-8979. - 96:(2004), p. 3987.

Wide band-gap silicon-carbon alloys deposited by very high frequency plasma enhanced chemical vapor deposition

GIORGIS, FABRIZIO
2004

2004
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