Archivio Istituzionale della RicercaA contact formulation for electrical and mechanical resistance / Zavarise, G.; Boso, D.; Schrefler, B. A. - In: Proc. III Contact Mechanics International Symposium (CMIS) / Martins JAC Monteiro Marques MDP. - STAMPA. - DORDRECHT : Kluwer Academic Publisher, 2001. - ISBN 1402008112. - pp. 211-218 [10.1007/978-94-017-1154-8_22]
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https://hdl.handle.net/11583/2700646
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