a-SiC:H films deposited by PECVD from silane + acetylene + hydrogen gas mixtures / Giorgis, Fabrizio; Pirri, Candido; Tresso, Elena Maria; P., Rava. - In: DIAMOND AND RELATED MATERIALS. - ISSN 0925-9635. - 6:(1997), p. 1606.

a-SiC:H films deposited by PECVD from silane + acetylene + hydrogen gas mixtures

GIORGIS, FABRIZIO;PIRRI, Candido;TRESSO, Elena Maria;
1997

1997
File in questo prodotto:
Non ci sono file associati a questo prodotto.
Pubblicazioni consigliate

I documenti in IRIS sono protetti da copyright e tutti i diritti sono riservati, salvo diversa indicazione.

Utilizza questo identificativo per citare o creare un link a questo documento: https://hdl.handle.net/11583/1661141
 Attenzione

Attenzione! I dati visualizzati non sono stati sottoposti a validazione da parte dell'ateneo